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气体纯化系统在半导体洁净室中的作用主要包括以下几个方面：
去除杂质
半导体制造对气体纯度要求严格，气体纯化系统可有效去除气体中的水分、氧气、颗粒物及有机污染物，防止杂质影响工艺质量。
保障工艺稳定性
高纯气体是光刻、蚀刻、沉积等关键工艺的基础，纯化系统确保气体成分稳定，减少工艺波动，提高产品良率。
防止污染
洁净室环境中，气体若含杂质可能沉积在晶圆表面，导致缺陷。纯化系统降低污染风险，维持洁净度。
延长设备寿命
不纯气体可能腐蚀或堵塞设备部件，纯化系统减少此类损害，降低维护成本。
安全防护
某些工艺气体（如硅烷、磷烷）具有毒性或易燃性，纯化系统可减少有害副产物的生成，提升操作安全性。
满足行业标准
半导体制造对气体纯度有严格要求，纯化系统确保气体符合行业规范，如SEMI标准。
优化成本
通过减少气体浪费和工艺返工，纯化系统有助于提高生产效率，降低整体成本。
气体纯化系统的设计和运行需结合具体工艺需求，并定期维护以确保性能稳定。
